研究室紹介「和泉研究室」
危険ガスを用いない新規のハードコーティング膜堆積法や各種金属，半導体材料表面のクリーニングや窒化などの表面改質法の開発といった集積回路やフラットパネルディスプレイ，太陽電池などの更なる高性能化，低コスト化に必要な製造プロセスに関する研究を行っている。
薄膜堆積・表面改質装置を用いた実験風景 |
新規表面改質法によるクリーニング前後の10円玉の表面 |
| 研究テーマ | 半導体プロセス |
|---|---|
| 所属職員 | 和泉 亮 （教授），片宗 優貴 （助教） |
| キーワード | 半導体プロセス，低温成膜，ハードコーティング膜，シリコン窒化膜，シリコン炭窒化膜，表面改質，表面窒化，表面クリーニング，HW-CVD(Cat-CVD)法 |
| URL |
